我們在應用光譜分析方法測定試樣中元素含量時，所得結果與真實含量通常并不是一致的，總是存在著一定的光譜分析儀誤差和偏差。在百度百科中對于誤差和偏差如此介紹：誤差是指每次測得的數值與真值之差，而偏差是指每次測得的數值與多次測量平均值之差。但習慣上大家常把誤差與偏差混用不區別。根據誤差的性質及其產生原因，誤差可分為:系統誤差、偶然誤差和過失誤差三種。下面就為大家介紹下。

首先是系統誤差，這類誤差是指在測定過程中，由于光譜分析儀組成某些固定的或按一定規律變化的因素，使測定結果向一個方向偏離真值所出現的誤差。系統誤差的大小在同一實驗中基本上是相同的。測量結果與真值偏離的程度越小，測定結果越正確，系統誤差就越小。如5代光譜儀在系統誤差僅有0.03及以下的誤差。

其次是偶然誤差和過失誤差，偶然誤差主要是在在測定中，多次分析結果與真實含量比較,是向兩個不同方向偏離，這時的誤差稱為偶然誤差，產生偶然誤差的原因很多，要完全消除偶然誤差是很難的。因此需要盡可能的減少過失誤差，這類誤差常常來源于操作不細心、操作不正確所造成的，如樣品順序顛倒、讀錯數值、記錄錯誤等等。

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